欧盟纳米压印光刻技术实现低成本批量生产感应薄膜

日期:2014-12-17 11:22 点击数:2387 来源:国家科技部共有条评论

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纳米结构传感器阵列（NSA），以其在单一检测装置有效检测样品中分子或分子一部分的大面积多参数传感优势，而在制药业、环保等其它行业得到广泛应用。但直到目前，其实验室规模小批量生产导致相对较高的制造成本，一定程度上限制了新兴技术在更大范围内的商业化推广应用。欧盟第七研发框架计划（FP7）提供490万欧元资助，总研发投入690万欧元，由欧盟6个成员国及联系国芬兰（总协调）、英国、德国、荷兰、奥地利和瑞士，9家企业联合科技界组成的欧洲PHOTOSENS研发团队。从2011年2月开始，致力于NSA低成本大规模工业化制造的关键技术与生产工艺突破，利用最先进的纳米压印光刻（Nanoimprint Lithography）技术，整合卷到卷（R2R）生产制造工艺，实现了低成本大批量制造生产大面积NSA的工业流程设计和设备样机开发，奠定了NSA进一步商业化推广应用的基础。
PHOTOSENS研发团队，整合纳米压印光刻技术、基底纳米功能冲压工艺和R2R生产工艺流程，为规模化制造纳米结构装置和大面积光子结晶化合物感应薄膜，开起了崭新路径。研发团队已成功开发出3种不同类型的全聚合物多参数感应装置生产制造工艺及设备样机。例如，应用于环保行业检测空气质量的甲醛（Formaldehyde）光子结晶感应装置；应用于制药和食品安全行业检测布洛芬（Ibuprofen）化合物成分的感应装置；和应用于多行业的灵活嵌入式一次性多参数芯片检测装置。
目前，研发团队主要聚焦于基于3D打印技术的单模波导感应检测装置的生产制造工艺开发，正在进行工艺流程验证和结构优化。研发团队已申请数10项发明专利和在国际著名学术刊物上发表9篇高质量论文。

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